真空電鍍即真空蒸發(fā)鍍膜﹐其原理是在高度真空條件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金屬鋁片受熱蒸發(fā)并附于(塑料)工件表面﹐形成一層金屬膜的方法﹒
真空鍍膜設(shè)備真空電鍍機真空電鍍的特點:
1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格復制出啤件表面的形狀
2、工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴﹒
3、蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒
4、只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒
5、對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷﹒
6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒
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